描述：

1. 真空系統(tǒng)

極限真空:優(yōu)于

1×10

?6

Pa

(配備渦輪分子泵和干泵組合)。

前級(jí)泵:通常采用機(jī)械泵(如 ULVAC VDN 系列)快速抽至低真空,再由渦輪分子泵實(shí)現(xiàn)高真空。

抽速:從大氣到

1×10

?3

Pa

約需 10-15 分鐘。

2. 靶材與基片

靶材尺寸:標(biāo)準(zhǔn)配置支持 2 英寸圓形靶材,部分應(yīng)用場景可兼容更大尺寸(如 8 英寸),需通過定制夾具實(shí)現(xiàn)。

靶位數(shù)量:5 個(gè)獨(dú)立靶位,可安裝 1 個(gè)射頻(RF)源和 2 個(gè)直流(DC)源,剩余 2 個(gè)為備用或輔助源。

基片尺寸:標(biāo)準(zhǔn)支持 3 英寸晶圓或碎片,部分實(shí)驗(yàn)中通過治具擴(kuò)展至 100-200mm 基板。

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