描述：

晶圓尺寸兼容性

支持 100mm、125mm 和 150mm 晶圓,適用于早期半導體工藝節(jié)點(如微米級制程)的量產(chǎn)需求。

束流特性

離子種類:可處理多種離子(如 B、P、As 等),但具體離子束流強度因離子類型而異。例如,硼離子(B?)典型束流約為 5 mA,砷離子(As?)可達 10 mA。

能量范圍:根據(jù)型號差異,120XP 的最大能量通常在 120 keV 左右,屬于中低能離子注入機范疇,適合淺結(jié)注入(如源漏區(qū)形成)。

劑量控制

劑量均勻性:優(yōu)化設(shè)計實現(xiàn)了行業(yè)的劑量重復性和均勻性,滿足高精度工藝要求。

劑量范圍:支持 1013 至 101? ions/cm2 的注入劑量,覆蓋從輕摻雜到超深結(jié)的應(yīng)用場景。

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