描述：

光源與波長(zhǎng)

采用i-line 準(zhǔn)分子激光光源,波長(zhǎng)為365 nm。該波長(zhǎng)屬于紫外線光譜,適用于 0.35 微米及以上制程,兼顧分辨率與工藝窗口穩(wěn)定性,尤其適合邏輯芯片、存儲(chǔ)芯片及 MEMS 器件的量產(chǎn)。

分辨率與數(shù)值孔徑(NA)

分辨率:通過(guò)優(yōu)化光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì),實(shí)現(xiàn) **0.45 μm L&S(線寬與間距)** 的最小特征尺寸。這一指標(biāo)滿足 90 nm 至 0.35 μm 節(jié)點(diǎn)的制造需求。

數(shù)值孔徑(NA):根據(jù)分辨率公式(分辨率 = k??λ/NA),結(jié)合 0.45 μm 分辨率與 365 nm 波長(zhǎng)推算,NA 約為0.57(假設(shè) k?=0.6)。部分文獻(xiàn)提到更高 NA 值(如 0.63),可能為特定配置或測(cè)試條件下的參數(shù)。

曝光能量與均勻性

曝光能量密度:典型值為550 mW/cm2,支持動(dòng)態(tài)調(diào)整以適應(yīng)不同光刻膠敏感度。

照明均勻性:≤±2.0%(3σ),確保晶圓表面曝光劑量的一致性。

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