描述：

優(yōu)勢與衍生型號

優(yōu)勢:膜層均勻性與重復(fù)性佳,適合高要求光學(xué)膜量產(chǎn);Load-Lock 設(shè)計(jì)提升效率;圓筒陰極壽命長、維護(hù)成本低;潔凈無油真空系統(tǒng)滿足半導(dǎo)體級潔凈度。

衍生型號:HSP-1650V2、HSP-1650V3、HSP-1650V3+DM(雙監(jiān)控)等,逐步強(qiáng)化反應(yīng)濺射控制、自動化程度與基片尺寸兼容性。

操作流程與維護(hù)要點(diǎn)

基片清洗→Load-Lock 上料→預(yù)抽真空;

主腔抽至高真空,加熱基片至工藝溫度;

通入工作氣體,啟動濺射電源,按程序沉積多層膜并實(shí)時(shí)監(jiān)控;

工藝完成后降溫、充氣、出料;

維護(hù)重點(diǎn):定期更換靶材與密封圈、清潔腔體、保養(yǎng)真空泵油 / 冷泵、校準(zhǔn)膜厚儀。

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