描述：

晶圓兼容性

支持 8 英寸(200mm)晶圓,可通過適配器兼容 150mm 晶圓。中央真空傳輸腔設(shè)計(jì)確保晶圓在多腔室間無縫傳輸,減少顆粒污染風(fēng)險(xiǎn)。

真空系統(tǒng)

基準(zhǔn)壓力:<10?? Torr

真空泵配置:QDP80 渦輪分子泵 + QMB500 機(jī)械前級(jí)泵(PECVD 腔)

壓力控制精度:±0.1%(通過節(jié)流閥動(dòng)態(tài)調(diào)節(jié))

溫度控制

基座溫度范圍:200–450°C(支持 RTP 退火時(shí)可達(dá) 1100°C)

溫度均勻性:±2°C(片內(nèi)),±3°C(片間)

加熱方式:紅外輻射加熱,配合氦氣背冷系統(tǒng)

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