描述：

適用范圍: 廣泛用于LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、不銹鋼、光扦接頭等各種材料的單面拋光。

高精密單面拋光設(shè)備原理:?

該單面拋光機(jī)為精密拋光設(shè)備,被拋材料放于拋光盤(pán)上,拋光盤(pán)逆時(shí)鐘轉(zhuǎn)動(dòng),修正輪帶動(dòng)工件自轉(zhuǎn),重力加壓的方式對(duì)工件施壓,工件與拋光盤(pán)作相對(duì)運(yùn)轉(zhuǎn)磨擦,來(lái)達(dá)到拋光目的。

高精密拋光機(jī)特點(diǎn):?

1、?變頻控制,實(shí)現(xiàn)軟啟動(dòng),軟停機(jī),沖擊力小,減少工件損傷。

2、采用計(jì)時(shí)功能控制時(shí)間,加工產(chǎn)品時(shí)可預(yù)先在面板上設(shè)定好時(shí)間與轉(zhuǎn)速、工作時(shí)間跳到設(shè)定時(shí)間時(shí),機(jī)器自動(dòng)停止工作,能更好的控制產(chǎn)品尺寸。

3、拋光機(jī)工件加壓采用壓重塊自重加壓,拋光后工件表面光亮度高、無(wú)劃傷、無(wú)劃痕、無(wú)料紋、無(wú)麻點(diǎn)、不塌邊、平面度高等特點(diǎn)。拋光后工件表面粗糙度可達(dá)到Ra0.002;

4、?采用間隔式自動(dòng)噴液裝置,可自由設(shè)定噴液間隔時(shí)間,研磨液能均勻的噴灑在拋光盤(pán)上,達(dá)到工件的穩(wěn)定性。減少拋光的時(shí)間,更節(jié)省了耗材的成本,也符合了環(huán)境的要求。

5、采用進(jìn)口軸承,電機(jī),確保設(shè)備的穩(wěn)定性和 壽命,確保工件的精密要求。

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