描述：

二手進口雙開門磁控鍍膜機 濺射鍍膜機 電鍍機帶靶材

工作原理關鍵:磁場約束電子,提升濺射效率

這是 “磁控” 與傳統(tǒng)濺射的核心區(qū)別:在靶材背部安裝磁鐵或電磁線圈,形成與電場垂直的磁場(磁力線沿靶材表面分布),其作用是 “困住” 電子:

自由電子在 “電場力” 作用下本應直接飛向正極(基片 / 室壁),但磁場會通過 “洛倫茲力” 改變電子運動方向,使其沿磁力線做螺旋狀運動;

電子的運動路徑被大幅延長,與氬氣分子的碰撞概率顯著增加,能電離出更多氬離子

同時,電子不會快速轟擊基片,避免基片因電子撞擊而過熱(保護光學元件不受高溫損壞)。

4. 成膜:離子轟擊靶材,原子沉積

離子轟擊靶材:帶正電的氬離子在電場力加速下,以高速(約 10? m/s)垂直撞擊靶材表面;

靶材原子濺射:氬離子的動能傳遞給靶材原子,克服靶材原子間的 “結合力”,使靶材原子(或原子團)從表面 “脫離”,形成 “濺射粒子流”;

薄膜沉積:濺射出來的靶材原子(如制備增透膜的二氧化硅、制備導電膜的 ITO)會沿直線飛向基片,逐漸在基片表面 “堆積”,并通過原子間的引力形成連續(xù)、致密的光學薄膜。

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