描述：

參數(shù)與功能

?真空室尺寸?:Ф2350mm×H1400mm,基板架Ф2200mm,支持5片式基板旋轉(zhuǎn)(20rpm),確保膜厚均勻。

?鍍膜能力?:配備電子槍和熱阻蒸蒸發(fā)源,支持AS/AR膜鍍制,RF離子源提升膜層耐摩擦性(通過4萬次以上摩擦試驗(yàn))。

?性能指標(biāo)?:極限真空度≤7.0E-5Pa,排氣時(shí)間≤15分鐘(大氣壓至2.0×10-3Pa)。

?工作條件?:電源為3相200V/50-60Hz(約80KVA),水流量≥220L/min,空氣壓力0.5-0.7MPa,設(shè)備重量約12000kg。

應(yīng)用場景

主要用于智能手機(jī)觸摸屏的防污膜(AS膜)和抗反射膜(AR膜)鍍制,也適用于車載屏等光學(xué)鍍膜需求。

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