一、設(shè)備型號(hào)與基礎(chǔ)參數(shù)
?UNIVAC-1500系列?
鍍膜室尺寸:直徑1500mm(具體高度需參考廠商手冊(cè)),適用于大尺寸光學(xué)元件鍍膜?。
真空系統(tǒng):通常配置擴(kuò)散泵(如K-200型,抽速1200-1500升/秒)和機(jī)械泵(2XQ-8型),極限真空度可達(dá)5×10??托。
蒸發(fā)源:支持電阻加熱或電子束蒸發(fā),功率1.5千瓦,電壓8-16伏可調(diào)。
?功能擴(kuò)展?
可選配離子轟擊裝置(直流負(fù)高壓0-3000伏)和工件烘烤系統(tǒng)(碘鎢燈加熱),提升膜層附著力。
三、技術(shù)特點(diǎn)
?鍍膜類型?:支持光學(xué)膜(如AR濾光膜)、電學(xué)膜及裝飾性薄膜,兼容磁控濺射工藝(需選配靶材)?。
?控制方式?:電磁閥自動(dòng)控制,部分型號(hào)配備工件架旋轉(zhuǎn)(30轉(zhuǎn)/分)以提升均勻性。
四、應(yīng)用場(chǎng)景
主要用于光學(xué)鏡片、太陽(yáng)能集熱管鍍膜,尤其適合耐高溫干涉膜(如Cu/SS+AlN多層結(jié)構(gòu))
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