描述：

性能特點

高效率排氣系統(tǒng):集成機械泵 + 羅茨泵 + 擴散泵及 POLYCOLD 低溫冷凝器,極限真空≤7.0×10??Pa,抽真空至工作狀態(tài)僅需 15 分鐘,可顯著提升生產(chǎn)效率。

顆粒污染控制技術(shù):通過特殊選購配置降低微塵污染,結(jié)合真空密封技術(shù),連續(xù) 20 批次 IR 截止濾光片鍍膜無需清掃校正,能有效保障鍍膜的潔凈度與工藝穩(wěn)定性。

高功率大面積 RF 離子源:配備 23 英寸專用 RF 離子源,支持Ф1150mm 以上輻照面積,離子束聚焦精準,適用于樹脂基片至多層濾波片的高品質(zhì)鍍膜。

重復(fù)性性能優(yōu)勢:光纖膜厚儀與恒溫監(jiān)控玻璃協(xié)同工作,確保膜層特性高度穩(wěn)定;污染抑制技術(shù)與真空系統(tǒng)的可靠性相結(jié)合,可實現(xiàn)批量連續(xù)生產(chǎn),如 IR 截止濾光片 20 批次零維護,大幅降低了維護成本。

應(yīng)用領(lǐng)域:該設(shè)備可覆蓋 AR 膜、AF 膜及 100 層以上復(fù)雜介質(zhì)膜的制備,適用于光學(xué)器件、顯示面板等領(lǐng)域,能夠滿足不同領(lǐng)域?qū)鈱W(xué)薄膜的高質(zhì)量要求。

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