描述：

1. 光源與波長(zhǎng)

光源類型:采用氟化氬(ArF)準(zhǔn)分子激光器,屬于深紫外(DUV)技術(shù)。

波長(zhǎng):193nm,相較于早期的 i-line(365nm)和 KrF(248nm)光源,可實(shí)現(xiàn)更高的分辨率。

2. 分辨率

理論極限:基于 193nm 波長(zhǎng)和光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì),其分辨率可達(dá) 90nm,適用于 90nm 節(jié)點(diǎn)的邏輯芯片和存儲(chǔ)芯片制造。

工藝延伸:通過光學(xué)鄰近效應(yīng)修正(OPC)等技術(shù)優(yōu)化,實(shí)際可支持部分 65nm 工藝。

3. 數(shù)值孔徑(NA)

光學(xué)系統(tǒng):配備高數(shù)值孔徑鏡頭,NA 值約為 0.60,這一參數(shù)直接影響分辨率和焦深。

成像能力:NA 0.60 結(jié)合 193nm 波長(zhǎng),可實(shí)現(xiàn) 90nm 線寬的曝光精度。

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