描述：

日本光馳離子源鍍膜機/蒸發(fā)鍍膜機/光學(xué)光鍍機OTFC1800介紹

機械特點:

真空室尺寸:Φ600-1800mm

60點/80點式光學(xué)膜厚監(jiān)控

使用均勻分的高離子電流密度的離子源

搭載雙電子,多點和環(huán)型坩堝可鍍100層以上

利用自動蒸鍍控制系統(tǒng)實現(xiàn)全自動蒸鍍過程

工件架可選擇鐘罩式或行星式

排氣系統(tǒng)可選擇擴散泵+低溫冷凝器(POLYCOLD)或冷凝泵

設(shè)備尺寸:

設(shè)備型號?OTFC-1800CBI/DBI

真空室?SUS304, φ1800mm×1920mm (H)

工件架?φ1600mm

工件架轉(zhuǎn)速?10rpm to 30rpm(可變)

光學(xué)膜厚控制?HOM2-R-VIS350A光學(xué)膜厚監(jiān)控儀

波長范圍:350nm to 1100nm

反射式或透射式

石英晶振膜厚計?XTC/3+6點式石英晶體傳感器

蒸發(fā)源?電子2套

離子源?23cmRF離子源

排氣系統(tǒng)?機械泵+2個擴散泵+Polycold(或2個冷凝泵)

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