描述：

核心配置

真空系統(tǒng)

真空室尺寸:直徑1550mm,高度1800mm,采用SUS304不銹鋼材質(zhì),適合大尺寸基材鍍膜。

極限真空度:≤7.0×10??Pa,滿足高精度光學(xué)鍍膜需求。

排氣系統(tǒng):機(jī)械泵+羅茨泵+擴(kuò)散泵+低溫冷凝器(POLYCOLD),確保快速抽真空和穩(wěn)定工藝環(huán)境。

鍍膜源與控制系統(tǒng)

蒸發(fā)源:雙電子槍(16F或24P型號(hào))+12穴環(huán)形坩堝,支持多層復(fù)雜膜系制備。

離子源:23寸射頻離子源(RF離子源),優(yōu)化膜層致密性和附著力,提升耐摩擦性能。

膜厚監(jiān)控:HOM2R-VIS350A光學(xué)膜厚監(jiān)控儀(波長范圍350-1100nm)+6點(diǎn)式晶控系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)納米級(jí)精度控制。

控制系統(tǒng):XTC-3全自動(dòng)蒸鍍流程,含在線阻針檢測功能,確保量產(chǎn)穩(wěn)定性。

工件架與工藝適配性

工件架直徑1400mm,轉(zhuǎn)速10-30rpm可調(diào),支持行星式或鐘罩式運(yùn)行模式,適配不同工藝需求。

支持基材類型:光學(xué)玻璃、晶體、塑膠等,應(yīng)用場景廣泛。

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