描述：

核心配置

真空系統(tǒng):通常采用機(jī)械泵、羅茨泵和擴(kuò)散泵組合,部分型號(hào)還配備韓國(guó) V-PLUS1000H 深冷裝置,以提升動(dòng)態(tài)真空穩(wěn)定性。

蒸發(fā)與離子源系統(tǒng):多配置韓一 12 六型電子,可配 12 穴坩堝,支持多層膜蒸發(fā),離子源則有韓一霍爾離子源或 RF 離子源等,以增強(qiáng)膜層附著力。

工藝控制系統(tǒng):膜厚監(jiān)控一般采用晶控儀(XTC)+ 光控儀(HOM2-R-VIS350A),可支持多點(diǎn)光學(xué)膜厚實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè),膜厚控制精度達(dá) 0.002μm。

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