描述：

應用領域

光通信領域:可用于制造光纖通信中的波分復用器、光隔離器等光學薄膜元件。

光顯示領域:用于制造液晶顯示器、有機發(fā)光二極管顯示器等顯示設備中的偏振片、增透膜等光學薄膜。

激光加工領域:可制造激光鏡片、激光窗口等光學元件上的高反射膜、增透膜等。

其他領域:還可應用于 AR/VR 設備、數(shù)碼相機、顯微鏡等領域的光學薄膜制造。

操作流程

抽真空:徹底清潔真空室,裝入鍍膜鏡片,關好真空室門,在觸摸屏控制面板的 MAIN 菜單里的 EVAPORATION CONTROL 界面選擇 CHAMBER EXHAUST,抽氣過程中各閥門的關閉和啟動機器會自動進行。

熔料:根據(jù)鍍膜材料的不同,調(diào)整坩堝轉(zhuǎn)速和電子參數(shù)進行熔料,如預熔 SIO2 時,將 SIO2 坩堝轉(zhuǎn)速調(diào)整為 400,調(diào)整電子參數(shù)后啟動,熔完一圈后關閉電子和坩堝旋轉(zhuǎn)。

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