二手新柯隆光學(xué)濾光片專用真空鍍膜機(jī) 光學(xué)涂層設(shè)備回收出售
性能參數(shù)
極限真空度:可達(dá) 1×10??Pa。
工作真空度:為 0.003Pa。
抽氣時(shí)間:從大氣環(huán)境抽至工作真空度大約需要 30 分鐘。
電力需求:三相 200V±10%,約 68kW(最大電力)。
冷卻水需求:約 140L/min、18~24℃(標(biāo)準(zhǔn) 20℃)。
壓縮空氣需求:不低于 0.5MPa(0.7MPa)。
設(shè)備重量:約 9 噸。
安裝面積:W4300mm×D6300mm×H2700mm,頂棚高度不低于 3000mm。
應(yīng)用領(lǐng)域
光學(xué)薄膜領(lǐng)域:可用于制備各種光學(xué)薄膜,如增透膜、高反射膜、濾光片等,滿足光學(xué)器件對(duì)薄膜光學(xué)性能的嚴(yán)格要求。
其他領(lǐng)域:還可應(yīng)用于金屬膜形成以及其他需要表面涂層處理的領(lǐng)域,如電子器件、裝飾等行業(yè)。
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