描述：

工作原理

采用物理氣相沉積(PVD)的磁控濺射技術(shù):在高真空腔體內(nèi),通過(guò)磁場(chǎng)約束高密度等離子體,使氬離子高速轟擊靶材表面,將靶材原子 / 分子濺射出并沉積到高速旋轉(zhuǎn)的基片表面;通過(guò)精確控制濺射功率、氣體流量、基片溫度、沉積時(shí)間及光學(xué)監(jiān)控反饋,形成厚度精準(zhǔn)、致密均勻、附著力強(qiáng)的功能性薄膜。

典型應(yīng)用領(lǐng)域

光學(xué)通信:DWDM 濾光片、波分復(fù)用器、隔離器鍍膜;

消費(fèi)電子:攝像頭模組 IR-Cut 濾光片、AR/VR 鏡片增透 / 防反射膜、觸控屏 ITO 膜;

半導(dǎo)體與 MEMS:傳感器保護(hù)膜、電極膜、微鏡表面涂層;

汽車(chē)光學(xué):激光雷達(dá)窗口、車(chē)燈透鏡增透膜。

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