描述：

檢測原理

采用光學表面分析(OSA)技術,集成四種檢測方法:

散射測定法:通過 405nm 激光(50mW)掃描,檢測表面散射光強度,識別亞微米級顆粒(如 0.08μm PSL 等效缺陷)。

橢圓偏光法:分析反射光的偏振態(tài)變化,用于透明材料(如 SiC、藍寶石)的膜厚均勻性測量(精度達 5?-1000?)。

反射測量:635nm 激光(8mW)檢測鏡面反射光,評估表面粗糙度(Ra/Rq 參數(shù))和反射率差異。

光學輪廓測定:通過 Z 軸形貌分析(垂直分辨率 > 2?),識別劃痕(100μm 長 ×0.1μm 寬 ×50? 深)、凹坑(20μm 直徑 ×50? 深)等三維缺陷。

多通道協(xié)同

四通道同步采集數(shù)據(jù):

散射光(暗場):高靈敏度檢測微小顆粒和表面起伏。

反射光(明場):評估表面平整度和反射率均勻性。

相移(相位對比):增強透明材料中缺陷的對比度。

Z 頻道(形貌):通過共焦或干涉技術生成三維表面輪廓。

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